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等離子處理設(shè)備

等離子處理設(shè)備

Plasma equipament

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WAP系列寬幅等離子處理設(shè)備
寬幅式等離子設(shè)備是通過(guò)DBD(Dielectric Barrier Discharge)介質(zhì)阻擋放電技術(shù)形成穩(wěn)定連續(xù)Plasma的先進(jìn)設(shè)備。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

人機(jī)交互系統(tǒng);
不改變機(jī)體固有特性,改性僅發(fā)生在表面;
全程干法處理,無(wú)污染;
放電穩(wěn)定,處理均勻;
低溫,無(wú)燙傷或擊穿風(fēng)險(xiǎn);
單次處理寬度較寬。

產(chǎn)品參數(shù)

參數(shù)規(guī)格
類別 WAP-H系列 WAP-R系列
處理寬度 100-400mm,可定制 100-250mm,可定制
電源功率 2000W 500W
電源頻率 20-50KHz 13.56MHz
主要工作氣體 N2 Ar
流量范圍 100-500SLM 10-100SLM
氣源壓力 0.4MPa以上 0.2-0.4MPa
冷卻方式 氣冷 水冷

行業(yè)應(yīng)用

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